纳米线条电子束曝光工艺条件研究

摘要

纳米线条在超导单光子探测、超导隧道结等超导电子学器件中具有广泛的应用。本文基于电子束曝光，实验上在大面积范围内获得了均匀的纳米线条。与此同时，对电子束曝光剂量、显影时间、光刻胶的旋涂等工艺条件进行了系统的研究。这些工艺条件的研究对后续超导电子学器件的制备具有一定的参考价值。