机译:原子力显微镜系统,用于映射位于半导体器件中的一个或多个地下结构的方法,或用于在半导体器件中监测光刻参数以及使用这种原子力显微镜系统
公开/公告号US11035878B2
专利类型
公开/公告日2021-06-15
原文格式PDF
申请/专利号US201816769951
发明设计人 LAURENT FILLINGER;PAUL LOUIS MARIA JOSEPH VAN NEER;DANIELE PIRAS;MARCUS JOHANNES VAN DER LANS;MAARTEN HUBERTUS VAN ES;HAMED SADEGHIAN MARNANI;
申请日2018-12-04
分类号G01Q60/24;G01Q70/06;G01N29/06;
国家 US
入库时间 2022-08-24 19:19:47