机译:用于生产高纯度二氧化硅的集成系统用于在基材上生产纯二氧化硅涂层的方法。用于制备高纯度二氧化硅的方法。用于将高纯度氧气分配到容器中的集成系统氧化硅氧化炉,用于使用高纯氧制备高纯氧化硅
公开/公告号BR0109926A
专利类型
公开/公告日2003-08-05
原文格式PDF
申请/专利权人 PRAXAIR TECHNOLOGY INC.;
申请/专利号BR20010109926
申请日2001-03-29
分类号C01B15/14;C01B33/20;C25B13/00;C25C7/04;
国家 BR
入库时间 2022-08-22 00:03:53