要解决的问题:提供一种可以以低成本和高生产率制造并且具有足够的抗反射性能,耐磨性和耐污染性的抗反射膜,其制造方法,偏光片板和使用这种优异的抗反射膜的图像显示装置。
解决方案:该抗反射膜的低折射层位于距支撑体最远的位置,该抗反射膜包含在电离辐射的照射下可固化的树脂和具有聚硅氧烷部分结构的化合物,且其中Si 版权:(C)2007,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2006293329A
专利类型
公开/公告日2006-10-26
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJI PHOTO FILM CO LTD;
申请/专利号JP20060064642
申请日2006-03-09
分类号G02B1/11;C08F290/12;B32B7/02;B32B27;G02F1/1335;G09F9;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:56:47