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ION SOURCE WITH CONTROLLED SUPERPOSITION OF ELECTROSTATIC AND GAS FLOW FIELDS

机译:静电场和气流场叠加受控的离子源

摘要

Ion source devices with controlled superposition of electrostatic and gas flow fields to effect rapid collisional cooling with improved ion collection and collimation, analytical apparatus comprising such ion source devices, and methods for use are presented.
机译:提出了具有受控的静电场和气流场的叠加以实现快速碰撞冷却并具有改进的离子收集和准直的离子源装置,包括这种离子源装置的分析装置以及使用方法。

著录项

  • 公开/公告号EP1735806A4

    专利类型

  • 公开/公告日2009-08-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CIPHERGEN BIOSYSTEMS INC.;

    申请/专利号EP20050723516

  • 发明设计人 HIEKE ANDREAS;

    申请日2005-02-22

  • 分类号H01J49/10;G21K1/08;H01J3/14;H01J49/04;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 19:18:06

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