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RF MEMS electrodes with limited grain growth

机译:晶粒生长受限的RF MEMS电极

摘要

The present invention generally relates to an RF MEMS DVC and a method for manufacture thereof. To ensure that undesired grain growth does not occur and contribute to an uneven RF electrode, a multilayer stack comprising an AlCu layer and a layer containing titanium may be used. The titanium diffuses into the AlCu layer at higher temperatures such that the grain growth of the AlCu will be inhibited and the switching element can be fabricated with a consistent structure, which leads to a consistent, predictable capacitance during operation.
机译:本发明一般涉及一种RF MEMS DVC及其制造方法。为了确保不会发生不期望的晶粒生长并且导致不均匀的RF电极,可以使用包括AlCu层和包含钛的层的多层堆叠。钛在较高的温度下扩散到AlCu层中,因此将抑制AlCu的晶粒生长,并且开关元件可以制成一致的结构,从而在操作过程中产生一致且可预测的电容。

著录项

  • 公开/公告号US10301173B2

    专利类型

  • 公开/公告日2019-05-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CAVENDISH KINETICS INC.;

    申请/专利号US201414914071

  • 发明设计人 MICKAEL RENAULT;

    申请日2014-08-27

  • 分类号H01L29/84;B81B7;B81B3;B81C1;H01G5/18;H01H59;H01H1;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:14:06

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