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基于SiN微盘夹心层结构的单光子源的制备方法及器件

摘要

本发明涉及一种基于SiN微盘夹心层结构的单光子源的制备方法及器件,包括在硅基衬底上沉积SiN薄膜,在SiN芯片上制备SiN波导层,得到SiN波导阵列结构,在SiN波导层上沉积二氧化硅找平层,在二氧化硅找平层上沉积并制备SiN微盘夹心层结构;SiN微盘夹心层结构的有源层是量子点薄层。本发明可以采用垂直激光的泵浦,使得量子点受激发光。通过设计合理尺寸的微盘结构,使得微盘边缘处的量子点受激发光产生的光子与微盘发生谐振作用。最后谐振光耦合进SiN波导中,实现光在波导中传输,在波导的输出端口采用光纤收集测试光子数。

著录项

  • 公开/公告号CN111900619B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN202010706664.5

  • 发明设计人 林必波;许兴胜;

    申请日2020-07-21

  • 分类号H01S5/10(20210101);H01S5/20(20060101);H01S5/34(20060101);H01S5/04(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人鄢功军

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 13:17:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-18

    授权

    发明专利权授予

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