公开/公告号CN115404549A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-29
原文格式PDF
申请/专利权人 浙江大学杭州国际科创中心;
申请/专利号CN202210879232.3
申请日2022-07-25
分类号C30B29/36;C30B23/00;
代理机构杭州裕阳联合专利代理有限公司;
代理人金方玮
地址 311200 浙江省杭州市萧山区建设三路733号
入库时间 2023-06-19 17:46:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-29
公开
发明专利申请公布
机译: 化学增强型正阻剂组合物,用于形成具有出色图案特征,低线宽变化的阻性图案及其制粉工艺
机译: 一种由单个半导体层形成高阻区和低阻区的方法,
机译: 低阻p型srtio3的制备方法