射流控制机构、射流控制系统、射流控制方法及飞行设备

摘要

本发明涉及射流控制技术领域，具体涉及射流控制机构、射流控制系统、射流控制方法及飞行设备。射流控制机构包括气源、供气管、射流控制阀门、环量激励器、压力监测点位和温度监测点位。供气管将气源与射流控制阀门连通，射流控制阀门的射流出口与环量激励器连通，以构成射流通道。压力监测点位和温度监测点位设置于射流通道。射流控制系统和飞行设备包括该射流控制机构。其解决了现有技术中存在的技术问题，能够实现射流的高精度、高频率控制，射流控制的稳定性和可靠性大大提高，有助于推动射流控制的实际应用。