公开/公告号CN115312423A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-08
原文格式PDF
申请/专利权人 ASM IP私人控股有限公司;
申请/专利号CN202210492097.7
发明设计人 梅冈良幸;
申请日2022-05-07
分类号H01L21/67;H01L21/677;
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人焦玉恒
地址 荷兰阿尔梅勒
入库时间 2023-06-19 17:30:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-08
公开
发明专利申请公布
机译: 在例如制造中使用的基板处理设备。半导体晶片,具有气体循环管,该气体循环管延伸到衬底传送室的外部并连接到衬底传送室的相应部分
机译: 具有衬底支架的衬底传送室,该衬底支架垂直于衬底处理模块对准
机译: 用于半导体衬底处理室和衬底传送室以及用于半导体衬底处理室和附件的界面结构以及半导体衬底处理器