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化学机械抛光组合物、清洗组合物、化学机械抛光方法和清洗方法

摘要

提供:一种化学机械抛光组合物,其包含研磨剂,碱性组分,选自季型多铵盐、碳数为6以上的季铵盐、和具有酰胺结构的经烷基化的聚合物的至少一种化合物,以及水性载体;包含所述至少一种化合物和水性载体的清洗组合物;以及使用所述组合物且用于基材的化学机械抛光方法和清洗方法。

著录项

  • 公开/公告号CN114258421A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CMC材料株式会社;

    申请/专利号CN202080056791.3

  • 申请日2020-06-11

  • 分类号C09G1/02(20060101);C11D1/62(20060101);C11D3/22(20060101);C11D3/37(20060101);H01L21/02(20060101);H01L21/306(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人肖靖泉

  • 地址 日本三重县

  • 入库时间 2023-06-19 14:40:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-29

    公开

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