公开/公告号CN114144728A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-04
原文格式PDF
申请/专利权人 信越化学工业株式会社;
申请/专利号CN202080041500.3
申请日2020-04-15
分类号G03F1/62(20060101);G03F7/20(20060101);H01L21/683(20060101);
代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人王蕊;臧建明
地址 日本东京千代田区大手町二丁目6番1号
入库时间 2023-06-19 14:23:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-04
公开
国际专利申请公布
机译: 防护薄膜组件的制造方法,曝光盘,曝光装置及半导体装置
机译: 薄膜,薄膜,曝光原装薄膜粘膜,半导体器件的制造方法,液晶显示板的制造方法,曝光再生方法原始板及减少剥离残留物的方法
机译: 薄膜,曝光原始板用薄膜,半导体器件的制造方法,液晶显示板的制造方法,曝光再生方法及减少剥离残留物的方法