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公开/公告号CN112185428A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-05
原文格式PDF
申请/专利权人 昭和电工株式会社;
申请/专利号CN202010578142.1
发明设计人 长谷川浩太;东佑;
申请日2020-06-23
分类号G11B5/73(20060101);G11B5/84(20060101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人褚瑶杨;庞东成
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 09:26:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-18
授权
发明专利权授予
机译: 磁记录介质用润滑剂,磁记录介质,磁记录介质的制造方法以及磁记录再生装置
机译:磁记录介质,其制造方法,磁信号再现装置和磁信号再现方法
机译:开发了用于硬盘的磁记录介质(捣打介质)的新制造技术,证明了用于磁记录的超高记录密度
机译:开发超高记录密度的磁记录密度和硬盘磁记录介质新制造技术的超高记录密度(Pinta Media)
机译:超高真空溅射装置的磁记录介质的高分辨率。通过探针高分辨率磁记录介质。磁力显微镜。
机译:用于图案化磁记录介质的纳米制造方法。
机译:自组装在垂直磁记录介质上的磁性纳米颗粒阵列
机译:通过使用Ni-Fe / Si n多层的垂直磁记录介质中后层在垂直磁记录介质中的软磁特性的改进。
机译:位图磁记录介质的优化介质颗粒填充分数。