公开/公告号CN103601170A
专利类型发明专利
公开/公告日2014-02-26
原文格式PDF
申请/专利权人 北京思达医用装置有限公司;
申请/专利号CN201310383261.1
申请日2013-08-29
分类号C01B31/02;
代理机构
代理人
地址 100176 北京市北京经济技术开发区科创十四街20号院7号楼
入库时间 2024-02-19 21:40:17
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-01-20
授权
授权
2014-04-23
实质审查的生效 IPC(主分类):C01B31/02 申请日:20130829
实质审查的生效
2014-02-26
公开
公开
机译: 用于ahips模式液晶显示设备的阵列基质以及一种在单个溅射装置中实现相同能力的实现氢等离子体过程和透明导电材料层沉积过程的方法
机译: 通过引入多开始内部螺纹以在磨料喷射加工过程中实现较高的材料去除率来实现对喷嘴的修改的一种新方法
机译: 通过一种人工制品实现由至少一种抗牵引的支撑材料和至少一种海绵状材料构成的多层结构而实现的valigeria制品。