Extreme ultraviolet; Lithography; Mirrors; Reflectometry; Optics; Ruthenium films; Synchrotrons; Damage; Water vapors; Admixtures; High resolution; Partial pressure; Exposure; Lifelong testing;
机译:旨在原位修复用于EUV光刻的Ru盖多层反射镜上的碳沉积:利用电子诱导化学
机译:H_2O环境中Ru覆盖多层镜的极紫外辐射形成的表面Ru氧化物的原子氢清洗。
机译:乙醇抑制Ru覆盖的多层反射镜对极紫外光刻光刻光学的污染
机译:影响EUV诱导的Ru覆盖多层镜损伤的关键参数
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:体积损伤参数对基于贴片天线传感器的金属结构损伤检测的影响
机译:Mo / Si多层镜的EUV损伤阈值测量