Comme les procedes de projection plasma a basse pression classiques, le procede de depot de couches minces LPPS s'effectue dans une chambre a pression controlee (limitant la contamination et l'oxydation) pour realiser un nettoyage et un chauffage efficaces du materiau de base. Toutefois, dans ce cas, la chambre a vide verticale a ete modifiee et dispose d'une capacite de puissance superieure permettant au dard plasma d'etre allonge jusqu'a 2,5 m et elargi simultanement. Cela permet aux particules de poudre en fusion d'etre reparties de maniere homogene sur une plus grande surface, plus rapidement et plus finement, tandis que le taux de deposition eleve du nouveau systeme permet d'obtenir un revetement d'une microstructure tres dense. Une zone de 0,7 x 0,7 m~2 peut etre revetue d'AI_2O_3 de haute qualite et de 10 um d'epaisseur en moins d'une minute, avec une porosite egale ou inferieure a 1 percent. Il n'y a presque aucune limite quant aux materiaux projetables des lors qu'ils possedent la granulometrie voulue.
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