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机译:各向同性蚀刻的二值光学平滑
机译:各向同性蚀刻的二值光学平滑
机译:结合反应性离子刻蚀和KOH湿法刻蚀技术对GaN(1100)平面进行平直而平滑的刻蚀
机译:使用基于HNA的蚀刻溶液在硅中以光学表面质量对深通道进行各向同性湿法化学蚀刻
机译:XeF2的各向同性干法刻蚀工艺与EDP用于微热板设备的各向异性湿法刻蚀工艺的比较
机译:各向同性和横向各向同性介质中的行进时间层析成像。
机译:用于制造直径小于20 nm的垂直纳米线阵列的SiGe新型干法选择各向同性原子层蚀刻。
机译:用于硅蚀刻的低功率,低压反应离子蚀刻工艺,用于垂直和光滑壁,用于机动机动学应用