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机译:用于Nb2O5薄膜甲酰胺的新型挥发性铌前体的合成
Korea Res Inst Chem Technol Thin Film Mat Res Ctr 141 Gajeongro Yuseong 34114 Daejeon South Korea;
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Niobium; Precursor chemistry; Atomic layer deposition; Carboxamide; Structure elucidation;
机译:铌螯合前驱体层状铌酸盐K_4Nb_6O_(17)薄膜的合成与表征
机译:五氧化二铌(Nb2O5)薄膜:射频功率和衬底温度引起的物理性能变化
机译:铌的酰胺/亚氨基/胍基混合络合物:氮化铌薄膜MOCVD的潜在前体
机译:使用全氮配位的前驱体进行氮化铌和氧氮化物的MOCVD:薄膜沉积和机理研究
机译:固态材料的分子前体:挥发性无水金属硝酸盐作为单源前体分子,用于化学气相沉积金属氧化物薄膜
机译:WNxCy薄膜化学气相沉积前驱体钨基氨基胍基胍基钨配合物的合成与表征
机译:使用全氮配位的前驱物进行氮化铌和氮氧化物的MOCVD:薄膜沉积和机理研究
机译:三元黄铜矿(CuIns2)薄膜材料沉积的第一液体单源前驱体的合成与表征。