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机译:电子束光刻的实时剂量控制
Wentworth Inst Technol Dept Elect &
Comp Engn Boston MA 02115 USA;
Univ Kentucky Dept Elect &
Comp Engn Lexington KY 40506 USA;
Univ Kentucky Dept Elect &
Comp Engn Lexington KY 40506 USA;
does control; electron-beam lithography; FPGA;
机译:用于数字静电电子束阵列光刻的剂量控制电路
机译:加权剂量电子束光刻技术描绘的DFB激光二极管的精确波长控制波纹
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:用于掩模制造的电子束光刻仿真:IV。抗蚀剂对比对等焦剂量的影响
机译:用于多束电子束光刻的薄膜栅极光阴极。
机译:像差校正电子束光刻对悬浮石墨烯器件电子传输的影响的原位研究
机译:使用电子束光刻和三维激光光刻,用三维聚苯乙烯胶体晶体浸渍金属布线
机译:用于可信赖的microchip生产的无掩模电子束光刻。