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Fundamental ray aberration analysis: extension of ray matrix analysis to the third-order region using a four-element fundamental ray vector

机译:基础射线像差分析:使用四元基极光矢量扩展到三阶区域的雷矩阵分析

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摘要

We have developed a new fundamental ray aberration analysis that extends conventional ray matrix analysis to the third-order region using a four-element fundamental ray vector. This analysis method can analyze the factors in the generation of the Seidel aberration coefficients by separating them into the transform characteristics of rays unique to the optical system and paraxial trace values representing the conjugate relationship. In establishing this analysis, we first introduce the fundamental ray aberration, and we present calculation formulae for the fundamental ray aberration coefficients of a co-axial rotationally symmetric optical system. Numerical examples employing these analysis results are shown, and it is confirmed that the causes of the Seidel aberration coefficients can be analyzed. (C) 2020 Optical Society of America
机译:我们开发了一种新的基本射线像差分析,它使用四元基极光矢量将常规射线矩阵分析扩展到三阶区域。 该分析方法可以通过将它们分离成光学系统的射线的变换特性和表示共轭关系的剖视跟踪值来分析Seidel像差系数的产生因素。 在建立该分析时,我们首先介绍基础射线像差,并且我们为共轴旋转对称光学系统的基本射线像差系数提供了计算公式。 示出了采用这些分析结果的数值实例,并且证实可以分析Seidel像差系数的原因。 (c)2020美国光学学会

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  • 来源
    《Applied optics》 |2020年第14期|共12页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用;
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