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次世代メデイアの耐食性に関する検討--予備浸漬処理による磁気ディスクの耐食性向上

机译:下一代介质改善磁盘腐蚀性初步浸加工的耐腐蚀性研究

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摘要

パターンドメディアの耐食性向上を目的に,予備浸漬処理によるディスク上への耐食性皮膜の形成法に関して検討した.最も耐食性が改善する最適浸漬処理条件は,ベンゾトリアゾール1.0wt%,過酸化水素3%を含有するホウ酸塩永溶液への30分間の浸漬である.この処理により,中性環境でのCo合金の耐食性は20倍以上向上する.過酸化水素を共存させない場合は,耐食性の改善の度合いは小さい.この予備浸漬処理を実ディスクの構成材である記録層およびキャップ層に施した後,65°C,90%RHの恒温恒湿環境に暴露した場合でも,これらの層の耐食性は維持される.予備浸漬処理を施したディスク表面には,耐食性をもたらすBTA由来の窒素基が導入される.過酸化水素添加によるBTA層形成が促進される理由は,HSAB則で説明できる.
机译:为了提高图案化介质的耐腐蚀性,我们通过初步浸渍处理检查了在盘上形成耐腐蚀膜的方法。 用于改善耐腐蚀性的最佳浸渍处理条件浸泡30分钟,含有含有1.0wt%苯并三唑和3%过氧化氢的硼酸盐散裂溶液。 通过这种处理,通过20次进一步提高了中性环境中CO合金的耐腐蚀性。 如果过氧化氢不共存,则耐腐蚀性的改善程度小。 即使将该初步浸渍处理施加到作为实际盘的部件的记录层和盖层,也保持了这些层的耐腐蚀性。 在预浸渍处理的表面上引入了衍生自BTA的氮基团,导致耐腐蚀性。 促进过氧化氢添加的BTA层形成的原因可以在HSAB法中解释。

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