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机译:利用电感耦合等离子体技术蚀刻熔融石英相位光栅的优化条件
SURFACE-RELIEF GRATINGS; MICROLENSES; FABRICATION; SIO2; LENS; AR;
机译:利用电感耦合等离子体技术蚀刻熔融石英相位光栅的优化条件
机译:SF6快速蚀刻带有电感耦合等离子体的熔融石英光栅
机译:通过在优化化学蚀刻条件下通过电感耦合等离子体形成GaN的截面结构和反应离子蚀刻
机译:感应耦合等离子体技术制造熔融石英相栅
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:电感耦合等离子体蚀刻条件对半极性形成的影响(
机译:在优化的化学蚀刻条件下通过电感耦合等离子体和反应离子蚀刻形成独特的GaN结构
机译:在BCl3 / ar和Cl2 / ar中的III-V锑化物的电感耦合等离子体蚀刻;真空科学与技术杂志