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机译:用原子层沉积在玻璃基板上生长二氧化铪和氧化铝膜的摩擦学研究
Polish Acad Sci Inst Phys Aleja Lotnikow 32-46 PL-02668 Warsaw Poland;
Polish Acad Sci Inst Phys Aleja Lotnikow 32-46 PL-02668 Warsaw Poland;
AGH Univ Sci & Technol Fac Mech Engn & Robot Mickiewicza Av 30 PL-30059 Krakow Poland;
AGH Univ Sci & Technol Mickiewicza Av 30 PL-30059 Krakow Poland;
Polish Acad Sci Inst Phys Aleja Lotnikow 32-46 PL-02668 Warsaw Poland;
Atomic layer deposition; Thin films; Friction; Wear resistance;
机译:具有原子层沉积生长的二氧化ha和等离子体合成的界面层的锗/金属氧化物栅堆叠的电性能
机译:四(二甲基amide)ha和水中的二氧化ha薄膜的原子层沉积
机译:羟amide和水对二氧化films薄膜的原子层沉积
机译:二乙基锌和一氧化二氮原子层沉积在(11-20)蓝宝石衬底上生长的氧化锌膜的特性
机译:通过原子层沉积法生长的润滑性纳米晶状氧化锌/氧化铝纳米层压板和二氧化锆单膜的结构和低温摩擦学。
机译:基于全氟癸基三氯硅烷的种子层用于改善石墨烯上超薄二氧化ha薄膜的化学气相沉积
机译:等离子体增强原子层沉积对二氧化铪和二氧化锆的比较沉积电子材料应用