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机译:从甲基硅烷前体进行远程氢微波等离子体化学气相沉积。 2.沉积的a-SiC:H薄膜的表面形貌和性能
Centre of Molecular and Macromolecular Studies, Polish Academy of Sciences, Sienkiewicza 112, PL-90-363 Lodz, Poland;
Centre of Molecular and Macromolecular Studies, Polish Academy of Sciences, Sienkiewicza 112, PL-90-363 Lodz, Poland;
Centre of Molecular and Macromolecular Studies, Polish Academy of Sciences, Sienkiewicza 112, PL-90-363 Lodz, Poland;
Remote hydrogen plasma chemical vapor; deposition; Methylsilane precursors; Silicon carbide; Thin films; Surface morphology; Adhesion; Optical properties;
机译:从甲基硅烷前体进行远程氢微波等离子体化学气相沉积。 1.沉积的a-SiC:H薄膜的生长机理和化学结构
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机译:用氨基硅烷和硅氮烷前体远程氢等离子体化学气相沉积硬硅碳氮化型薄膜涂层。 2:沉积薄膜的物理,光学和机械性能
机译:A-SiC:H沉积在远程氢等离子体中的化学和力学性能,使用六甲基二硅烷作为源单体
机译:微波等离子辅助化学气相沉积钴-钼-钼合金微结构碳化物层的表面形貌和力学性能,用于人工关节。
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机译:微波等离子体增强化学气相沉积技术沉积多壁碳纳米管 - 石墨烯复合薄膜的结构,场发射和氨气敏特性