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机译:生长速率对化学气相沉积中Ⅱ-Ⅵ薄膜纳米结晶度的影响
Physical-Technical Institute, Scientific Association 'Physics-Sun', Uzbek Academy of Sciences, G. Mavlyanov Street 2B, Tashkent 700084, Uzbekistan;
thin film; chemical vapor deposition; nanocrystalline material; growth rate; critical temperature;
机译:宽带隙III-V材料的光化学气相沉积:光化学产生的自由基对氮化铝和氮化镓薄膜生长的影响
机译:生长参数对通过低压化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长的六方氮化硼薄膜成膜的影响
机译:衬底对等离子体增强化学气相沉积法沉积微晶硅薄膜生长的影响
机译:三聚氰胺流速对纳米晶体化学气相沉积法对纳米晶金刚石膜生长行为的影响
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:三聚氰胺流速对纳米晶体化学气相沉积法对纳米晶金刚石膜生长行为的影响