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机译:纳米金属氧化物半导体器件界面介电常数的不匹配与高K栅极介电质对反型电荷密度的影响
School of Urban Rail Transportation, 178 Gan-jiang East Road, Soochow University, Suzhou, 215006, People’s Republic of China;
Dielectric film; metal-oxide-semiconductor field transistors; quantization.; 85.30.Tv; 85.35.-p;
机译:在纳米金属氧化物 - 半导体器件的界面处不匹配,具有高E ???栅极介电影响对反转电荷密度
机译:亚纳米等效氧化物厚度的高级高k栅介电非晶LaGdO3栅金属氧化物半导体器件
机译:具有亚纳米等效氧化物厚度的高级高k栅极电介质非晶LaGdO_3栅金属氧化物半导体器件
机译:金属栅功函数和高k阻挡电介质的固定氧化物电荷对NAND型电荷陷阱闪存器件存储性能的影响
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