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机译:实时和等离子体后研究低浓度钨对D_2等离子体中碳腐蚀和表面演变行为的影响
Department of Material Science and Engineering, and Institute for Research in Electronics and Applied Physics, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA;
Department of Material Science and Engineering, and Institute for Research in Electronics and Applied Physics, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA;
Department of Material Science and Engineering, and Institute for Research in Electronics and Applied Physics, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA;
Center for Energy Research, University of California, San Diego, La Jolla, CA 92093, USA;
materials; plasma diagnostic techniques and instrumentation; plasma-material interactions; boundary layer effects;
机译:化学侵蚀的高级烃对SOL杂质迁移的影响和动态材料混合对暴露于边界等离子体的钨表面腐蚀/沉积影响的模拟研究
机译:含碳杂质的氘等离子体辐照在碳和钨表面上溅射腐蚀和杂质沉积的模拟研究
机译:暴露于SOL等离子的钨表面侵蚀/沉积的时间演变及其对等离子-表面相互作用的影响
机译:由于氘和铍离子在等离子体中的同时轰击导致碳和钨对碳和钨的动态腐蚀和沉积
机译:晶体取向对面向等离子体的钨表面中注入低能氢,氦和氢/氦混合物的影响。
机译:在食品和建筑环境的背景下个人层面的社会人口统计学和邻里层面的特征如何影响居民的居住行为? CARDIA研究25年随访结果
机译:暴露于氘等离子体的掺钨非晶碳膜的侵蚀
机译:吸附一氧化碳第一振动水平位移研究对(III)钨(极慢电子的非弹性扩散)的贡献。致力于发展总理Niveau Vibrationnel de Loxyde de Carbone adsorbe sur la Face(III)du Tungstene(Diffusion Inelastique des Electrons Tres Lents)