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机译:通过X射线衍射技术测量磁控溅射制备的黄铁矿薄膜中的残余应力
Department of Materials Science and Engineering, Zhejiang University,Hangzhou 310027, China;
Residual stresses; Thin films; Crystal structure; X-ray diffraction;
机译:直流磁控溅射技术制备的铜薄膜的原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)研究
机译:通过X射线衍射技术测量电弧PVD在高速钢基材上沉积的MoN和Mo2N涂层中的残余应力
机译:X射线衍射测量铁电Pb(Zr_(0.3)3Ti_(0.7))O_3薄膜中的残余应力
机译:通过直流和脉冲直流不平衡磁控溅射沉积的氮化钛薄膜中的残余应力
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:磁控溅射技术制备富硅siO2薄膜的结构和光学特性
机译:用X射线衍射技术测量一般取向的残余应力