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机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
International Iberian Nanotechnology Laboratory (INL), Braga, Portugal,Department Microsystems Engineering (IMTEK), University of Freiburg, Germany;
INESC Microsistemas e Nanotecnologias, Lisbon, Portugal;
Department Microsystems Engineering (IMTEK), University of Freiburg, Germany;
Department Microsystems Engineering (IMTEK), University of Freiburg, Germany;
INESC Microsistemas e Nanotecnologias, Lisbon, Portugal;
INESC Microsistemas e Nanotecnologias, Lisbon, Portugal,Department of Bioengineering, Instituto Superior Tecnico (1ST), Lisbon, Portugal;
机译:通过热线化学气相沉积在塑料基板上沉积的纳米晶硅薄膜的压阻特性
机译:SiH_4 / CH_4 / H_2在不同衬底温度下通过热线化学气相沉积制备的纳米晶立方碳化硅薄膜的性能
机译:通过热线化学气相沉积在塑料基板上低温度沉积非晶和微晶硅膜
机译:用于晶体光伏太阳能电池的柔性多晶金属基板上的异质外延硅薄膜:物理气相沉积与等离子体增强化学气相沉积之间的比较
机译:通过热线化学气相沉积制备的低温薄膜硅太阳能电池
机译:193 nm ArF受激准分子激光在激光辅助等离子体增强SiNx的化学气相沉积中的作用以进行低温薄膜封装
机译:掺杂在低衬底温度下通过热线化学气相沉积法沉积的非晶硅和微晶硅膜
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响