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机译:甲基三甲氧基硅烷水解和缩合条件对聚甲基倍半硅氧烷薄膜性能的影响
Moscow Technol Univ MIREA, Pr Vernadskogo 78, Moscow 119454, Russia;
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sol-gel; thin films; dielectrics; dielectric permittivity; refractive index; IR spectra; ellipsometry;
机译:基于甲基三甲氧基硅烷与桥倍半硅氧烷的共缩合的低k膜的物理性质
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机译:用甲基三甲氧基硅烷配混的新型氧化钨薄膜的气体铬特性(MTMS)
机译:温度对强制缩合法制备的ZnO纳米粒子形态和光学性质的影响N ^ p。 Suresh Kumar
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