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机译:预沉积射频等离子体刻蚀对压电AlN薄膜晶片表面形态和晶体取向的影响
OEM Group Incorporated, Gilbert, AZ;
Electrodes; Etching; Films; III-V semiconductor materials; Plasmas; Radio frequency;
机译:脉冲直流磁控溅射压电AlN和AlScN薄膜的表面形貌和微观结构
机译:SrTiO_3(100)表面生长的无铅压电(K,Na)NbO_3外延薄膜的晶体学取向测定
机译:通过等离子刻蚀的纳米原纤维图案:聚合物结晶度和取向在表面形态中的影响。
机译:沉积射频等离子体刻蚀对压电AlN薄膜晶片表面形貌和晶体取向的影响
机译:激光和等离子体诱导的薄膜沉积,蚀刻和表面改性
机译:铜酞菁薄膜的干刻蚀:对形态和表面化学计量的影响
机译:晶种层对压电致动器脉冲直流溅射AlN薄膜结晶度和取向的影响
机译:基体组成对反应溅射alN薄膜压电响应的影响;薄固体薄膜