机译:无掩膜激光光刻技术,用于在ITE中快速进行微技术和纳米技术的设备原型
Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa;
Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa;
Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa;
Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa;
Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki;
Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki;
photolithography; direct writing; mask production;
机译:无掩模光刻技术在实验室中用于微流控设备快速且经济高效的原型设计的研究
机译:通过数字微镜器件成型紫外激光进行无掩模显微光刻
机译:使用新开发的数字镜面设备光刻设备在深蚀刻或倾斜表面上进行无掩模光刻精细图案化以及灰度光刻
机译:区域平板阵列光刻(ZPAL):一种用于微光学器件制造的无掩模快速翻转系统
机译:无掩模微离子束还原光刻系统原型的实验演示。
机译:快速声光雕刻用于按需非掩模光刻
机译:数字微镜器件通过紫外激光成形无掩模显微光刻