机译:射频直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子输运和晶体学取向特征
机译:射频,直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的透明导电掺铝ZnO多晶薄膜的载流子传输和晶体学取向特征
机译:射频,直流和射频叠加直流磁控溅射沉积的高透明导电Al掺杂ZnO多晶线膜的载流子迁移率:晶界效应和晶粒体积中的散射
机译:直流磁控溅射法制备掺铝多晶ZnO薄膜的取向分布和载流子传输特性
机译:磁控溅射研究导电透明Al掺杂ZnO /金属双层膜
机译:直流反应磁控溅射沉积的新型薄膜透明导电氧化物。
机译:直流磁控溅射性能的改进含保留Ar原子的Al掺杂ZnO多晶膜10nm厚的缓冲层
机译:错误:“磁控溅射靶侵蚀区域对透明导电ZnO多晶膜结构和电学空间分布的影响”J。苹果。物理。 124,065304(2018)