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我国纳米压印光刻技术专利态势分析

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摘要

由于具有高分辨率、高产量、低成本等特点,纳米压印光刻技术被IC业界认为是最具发展前景的下一代光刻技术之一.本文旨在通过对纳米压印光刻技术中国专利申请进行统计分析,为我国进行具有自主知识产权的纳米压印光刻技术研发和制定有效的专利战略提供参考.

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来源
《科技和产业》 |2013年第4期|111-115|共5页
作者
戴翀;
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作者单位

国家知识产权局专利局光电发明审查部,北京100088;

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正文语种 chi
中图分类专利研究;
关键词
纳米压印光刻; 专利; 统计分析;

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