磁控共溅射法在聚碳酸酯柔性基底镀TiN研究

摘要

在较低的温度下,采用磁控溅射工艺在聚碳酸酯(PC)表面制备了TiN薄膜.应用激光共聚焦显微镜(CLSM)和X射线衍射仪(XRD)等研究了薄膜制备工艺对薄膜的表面微观形貌和晶质成分影响.结果表明:随着基底温度的升高,溅射的薄膜厚度和表面粗糙度增大.溅射的薄膜中,晶粒呈圆锥形,随着N2含量的增加,溅射的薄膜粗糙度逐渐下降,晶粒较小,分布较均匀.XRD衍射结果表明,溅射的薄膜晶质成分为TiN.