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王旭迪; 徐向东; 刘颖; 洪义麟; 付绍军;
中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230026;
合肥工业大学,机械与汽车工程学院,安徽,合肥,230009;
HfO2薄膜; 离子束刻蚀; 刻蚀速率; 图形转移; 表面质量;
机译:X射线光电子谱法研究薄膜(HFO2)_(Al2O3)/ Si的薄膜(HFO2)_(Al2O3)/ Si的研究
机译:ECR-ALD沉积HfO2 / La2O3 / HfO2薄膜的电学特性
机译:基板温度对HfO2,HfO2:Al和HfO2:W薄膜性能的影响
机译:通过离子束刻蚀制造的独立式HfO2谐振光栅
机译:研究工艺参数变化对离子束溅射Sc2O3和HfO2薄膜的材料性能和激光损伤性能的影响。
机译:溶胶-凝胶法制备的云母基板上HfO2薄膜的电阻转换特性
机译:离子束刻蚀介电薄膜材料表面的电子发射特性
机译:由Ta,W,GE和HFO2薄膜组成的光子纳米结构的电流热发射。
机译:用于研究材料的弹性特性的设备,特别是螺旋导向器的这种有利形状的材料,例如纸,纸板,金属箔,塑料薄膜等。
机译:用于对表面进行微观研究的粘合膜运输的薄膜测试,包括薄膜,这些薄膜的特征在于优化了对表面微生物的研究
机译:研究流体特性并生产用于研究流体特性的pol挤压设备的方法,用于生产pol的设备,用于监测从第一产品规格向第二产品规格过渡的方法和设备在聚合过程中,以及pol u00ecmero的产物
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