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张峰;
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术中国科学院重点实验室,吉林长春130033;
光学加工; 表面改性碳化硅; 化学机械抛光; 数控抛光; 材料去除函数;
机译:在电热沸腾层中获得的细硅碳化硅作为热塑性聚合物的结构改性剂的纳米颗粒
机译:硅改性层去除深度对反应烧结碳化硅衬底光栅结构的影响及改进方法的影响
机译:通过单晶硅表面原子取代合成的碳化硅层的红外光谱
机译:表面改性碳化硅非球面镜的制造和测试
机译:用于在硅和锗上进行区域选择性原子层沉积的表面改性。
机译:超声化学机械抛光与超声研磨相结合的单晶碳化硅晶片材料去除及表面生成研究
机译:单晶硅和蓝宝石衬底化学机械抛光过程中化学反应层的形成机制
机译:硅,硅/锗和碳化硅的原子层外延通过提取/交换过程
机译:在衬底的表面上形成石墨烯层,包括逐渐加热衬底直到碳化硅膜的自由表面的第一行原子的硅升华,其中硅层的自由表面是阶梯状的
机译:通过在具有特定表面结构的碳化硅衬底上沉积具有特定表面结构的硅层来获得用于MOS结构制造的氧敏硅层
机译:用于氮化镓基器件的多晶硅碳化硅衬底具有薄的蓝宝石层,该蓝宝石层设置在衬底的上表面上方,其中该层具有特定的厚度,并且上表面用于容纳器件的层
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