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用电子枪真空蒸发二氧化锆和二氧化硅来制备在玻璃上的保护的增透膜层

         

摘要

<正> 用电子枪真空蒸发法淀积在加热到300℃的基片上的双层四分之一波长 ZrO2—SiO2膜层和单层 SiO2膜是相当大地改进了玻璃的光透过率(τmax~98~90%)和能保护它们在周期性露水凝集作用下,相对湿度98%的环境不受侵蚀。该镀层可以推荐用于保护由于湿气的破坏作用而不稳定的玻璃并

著录项

  • 来源
    《光学精密工程》 |1977年第5期|31-33|共3页
  • 作者

    林开华;

  • 作者单位
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
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