自由空间用微光学元件

摘要

众所周知，采用碱性湿刻液，尤其是氢化钾(KOH)溶液的(110)硅片各向异性刻蚀，作为一种加工手段，可获得其它方式难以获得的垂直且高纵横比形状。同时，其刻蚀侧面，即(111)晶面，可达到非常平滑的程度。新制作的具有上述特点的硅板，由于其侧面为垂直的镜面，且作为微型元件具有较大的面积(100μm2以上)因此，人们期待能作为自由空间用微光学元件、尤其是作为微反射镜和光学平面应用。