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聚丙烯核孔膜化学蚀刻工艺研究

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摘要

探讨了蚀刻剂中重铬酸钾浓度、硫酸浓度及蚀刻温度、蚀刻时间等因素对聚丙烯膜基体蚀刻速率的影响;建立了基体蚀刻速率与重铬酸钾浓度、硫酸浓度、蚀刻温度的数学关联式;并选择一定的蚀刻条件对辐照过的聚丙烯膜进行蚀刻,得到了预期孔径的聚丙烯核孔膜.

著录项

来源
《核技术》 |2002年第1期|36-40|共5页
作者
孙志国; 张泉荣; 何向明; 严玉顺;
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作者单位

清华大学核能技术设计研究院,北京,102201;

清华大学核能技术设计研究院,北京,102201;

清华大学核能技术设计研究院,北京,102201;

清华大学核能技术设计研究院,北京,102201;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TQ320.72+1;
关键词
核孔膜; 聚丙烯; 基体蚀刻速率;

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