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微波退火条件下镍和锗锡合金反应的形貌研究

         

摘要

为了研究高质量镍锗锡薄膜的制备方法,在不同微波退火温度下进行了锗锡合金与镍的固相反应.借助四探针方块电阻测试、原子力显微镜、透射电子显微镜、能量色散X射线光谱等表征手段,分析了在微波退火条件下100 ~350°C所生成镍锗锡化物样品的形貌.研究结果表明:镍锗锡化物的表层电阻、表面粗糙度及薄膜质量与微波退火温度紧密相关,在250°C退火条件下得到了连续平整的镍锗锡薄膜,锡偏析在镍锗锡/锗锡的界面;在350°C退火条件下,薄膜的连续性遭到破坏,表面粗糙度变大,锡偏析在样品的表面和镍锗锡/锗锡的界面.与常规快速热退火方式相比,本文采用的微波退火方式,可在相对更低的温度得到高质量的镍锗锡薄膜,降低了镍与锗锡衬底反应所需的热预算.

著录项

  • 来源
    《材料科学与工艺》 |2021年第6期|49-53|共5页
  • 作者

    刘伟; 平云霞; 杨俊; 张波;

  • 作者单位

    上海工程技术大学数理与统计学院 上海201620;

    信息功能材料国家重点实验室(中国科学院上海微系统与信息技术研究所) 上海200050;

    上海工程技术大学数理与统计学院 上海201620;

    上海工程技术大学数理与统计学院 上海201620;

    信息功能材料国家重点实验室(中国科学院上海微系统与信息技术研究所) 上海200050;

    信息功能材料国家重点实验室(中国科学院上海微系统与信息技术研究所) 上海200050;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

    表面形貌; 微波退火; 锗锡合金; 锡偏析; 镍;

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