金属间化合物二硅化钼在干摩擦条件下的磨粒磨损特性

摘要

在磨损试验机上考察了金属间化合物二硅化钼材料在干摩擦条件下与氧化铝砂轮对磨时的磨粒磨损性能,用扫描电镜和定点探针观察了其磨损表面形貌,并对材料的磨损机理进行了探讨.结果表明:MoSi2材料具有较高的耐磨性,质量磨损率维持在3.3×10-4mg/min水平;微切削和疲劳微断裂是其主要磨粒磨损机理.