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李宁; 邵红红;
江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013;
射频磁控溅射; 氮化硼薄膜; 摩擦因数; 结合力;
机译:通过射频磁控溅射法制备近1-μm-厚的{100} - 厚度的外延y掺杂的HFO2铁电薄膜(100)Si基板上
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机译:射频磁控溅射法制备高性能透明掺锂铟锡锌氧化物薄膜晶体管
机译:射频磁控溅射法制备70Teo_2-30wo_3玻璃薄膜的制备与表征
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机译:杂化钙钛矿的新型物理气相沉积方法:通过射频磁控溅射法生长MAPbI3薄膜。
机译:射频磁控溅射法制备70TeO2-30WO3玻璃薄膜及其表征
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机译:射频磁控溅射法制备太阳能电池抗反射涂层的方法
机译:在基体上形成大面积,单晶,单层六方氮化硼薄膜的方法以及由此制备的六方氮化硼薄膜层压的方法
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