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PtSi薄膜超薄化及连续性研究

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摘要

减薄膜厚有利于提高PtSi红外探测器的量子效率.本文研究了膜厚减薄工艺对薄膜连续性的影响,用XRD观察物相,SEM、TEM研究薄膜连续性,并给出理论解释.实验表明用混合生长(S-K)模式能形成超薄连续薄膜.

著录项

来源
《激光与红外》 |2000年第4期|238-239|共2页
作者
刘爽; 宁永功; 陈艾; 刘俊刚; 杨家德; 李昆;
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作者单位

电子科技大学信息材料工程学院,成都,610054;

电子科技大学信息材料工程学院,成都,610054;

电子科技大学信息材料工程学院,成都,610054;

重庆光电技术研究所,重庆,400061;

重庆光电技术研究所,重庆,400061;

材料工程研究院,新加坡,119260;

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正文语种 chi
中图分类材料和工作物质;
关键词
PtSi膜; 超薄膜; 连续性;

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