阳光反射对空地成像设备干扰影响分析

摘要

分析了强反射源阳光反射干扰效应,并利用精密转台、镜面反射装置和空地成像设备实测了干扰效应。实测显示:阳光反射干扰效应像素数可达镜面理想成像像素数20倍;较强的干扰效应及闪烁,对空地成像设备稳定跟踪造成较大影响。全流程的外场阳光反射干扰实验实现难度较大;本文提出和实现了基于实测阳光干扰效应,仿真包含背景、目标和干扰的场景图像注入空地成像设备获取跟踪制导数据,将数据代入弹道计算模型的实验方法。最后分析了阳光反射对空地成像设备最终干扰效果。当10 km干扰有效,落点误差大于450 m;5 km干扰有效,落点误差大于25 m,被保护目标需采取一定的措施;若干扰距离不小于10 km,即使人在回路重新锁定目标,落点误差大于110 m。本文对空地成像设备抗阳光干扰算法改进和抗干扰能力评估具有一定的借鉴意义。