等离子体源离子注入装置中平面靶鞘层时空演化的计算机模拟

摘要

等离子体源离子注入是用于材料表面改性的一种新的，廉价的，非视线技术，它将待注入的靶直接浸泡在等离子体源中，并在靶上施加一系列负高压脉冲，离子在等离子体同靶表面形成的等离子体鞘层中被加速，并注入到靶中。