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王钧石; 吴大兴; 等;
不详;
等离子化学气相沉积; 涂层; 氮化钛; 组织; 性能;
机译:等离子辅助预处理对工具钢上等离子辅助化学气相沉积TiN涂层影响的研究
机译:等离子体诱导化学气相沉积制备的超硬nc-TiN / a-BN和nc-TiN / a-BN / a-TiB2纳米复合涂层的性能
机译:NH {sub} 3等离子体预处理对通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的TiN涂层的性能的影响
机译:具有一个大气均匀辉光放电等离子体(OAUGDP〜®)的表面能增强,等离子体化学气相沉积(PCVD)和等离子体蚀刻
机译:悬浮等离子体喷涂制备的机载稀土掺杂热障涂层的组织与性能
机译:等离子喷涂TiN和WC增强NiCrBSi复合涂层的组织与性能比较
机译:原位固 - 气反应生成TiN / C1-xNxTi增强等离子喷涂Ni基涂层的组织与性能
机译:等离子体辅助化学气相沉积法制备m2钢表面TiN涂层
机译:一种通过内部等离子体化学气相沉积(PCVD)工艺制造光纤原坯预制件的方法。
机译:用于执行等离子体增强化学气相沉积(pCVD)工艺的设备和用于制造光纤的方法
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