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李齐柱; 伏霞; 张子旸; 王旭; 陈红梅; 侯春彩; 黄源清; 郭春扬; 闵嘉华;
上海大学材料科学与工程学院;
上海200444;
国家知识产权局专利局专利审查协作江苏中心;
江苏苏州215163;
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米器件与应用重点实验室;
江苏苏州215123;
分布反馈激光器; 侧向耦合; 浅刻蚀光栅; 边模抑制比;
机译:基于1.3μmInGaAs量子点的15 Gb / s折射率耦合分布式反馈激光器
机译:Cl_2干法刻蚀制备的具有半刻蚀台面垂直光栅的1.3μm量子点分布式反馈激光器
机译:折射率耦合晶片级全息图案1.3μm量子点分布式反馈激光器的设计和器件特性
机译:折射率耦合全息图量子点分布反馈激光器的设计,制造和表征。
机译:消除用于制备1.3μm量子点激光器的InAs / GaAs量子点中的双峰尺寸
机译:消除InAs / GaAs量子点中的双峰大小以制备1.3μm量子点激光器
机译:横向耦合Inas量子点分布反馈激光器,为1.3微米
机译:半导体激光器的稳定化过程包括:半导体激光器的稳定分布反馈,反馈分布,以及半导体激光器的反馈稳定分布系统。
机译:分布式反馈(DFB)量子点激光器结构
机译:分布式反馈(Dfb)量子点激光器结构
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