一种有待推广的镀膜器件——S-枪磁控溅射源

摘要

S—枪是真空溅射镀膜源的后起之秀,属于磁控溅射。该枪在工作真空环境下利用氩气为溅射气体,施加正交电磁场,产生辉光放电,并在靶表面上空形成电子阱,约束二次电子沿一定轨迹运动,从而达到高速、低温溅射镀膜的目的。本文介绍了该枪的工作原理和特点,以及近年来在国内外应用的情况。