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田人和; 贺凯芬;
低能核物理研究所理论组;
激光退火; As; 液相外延; 低功率激光照射; 表面层; 离子注入; 激光能量密度; 连续波; 高功率激光; 分凝系数;
机译:选择性硅离子注入对脱氢非晶硅薄膜准分子激光退火的影响
机译:100keV B +离子注入硅中缺陷和杂质的深度分布
机译:离子注入硅激光退火过程中{001}环的异常产生
机译:剂量率对硅中离子注入杂质分布的影响
机译:离子注入控制硅中杂质分布的研究及其应用
机译:硅纳米线晶体管中电离杂质散射对总迁移率影响的模拟
机译:激光退火对离子注入和硼沉积硅中硼重新分布的影响
机译:离子注入参数中杂质浓度分布的多层结构数据库及其数据提取程序
机译:掺杂多晶硅层的方法,该方法利用栅绝缘层来防止离子注入的杂质扩散到下面的半导体衬底中
机译:检测离子注入过程中引入硅晶片的重金属杂质的方法
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